Page 118 - 2018表面处理年鉴

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技术交流

液中络合剂含量越高，下同）的无氰碱铜镀液进行赫氏槽打片，以试片外观作为试验判断依据。

1.1实验数据如下：

表1 铁杂质对镀液的影响

温度电流
铁含量 30℃ 0.5A 60℃ 0.9A 备注

300ppm 0—0.7cm黑色无附着力镀层 0—1.0cm黑色无附着力镀层

1.8g/L 0—2cm黑色无附着力镀层 0—3cm黑色无附着力镀层
2.5g/L 0—2.5cm黑色无附着力镀层 0—4cm黑色无附着力镀层
低温低电流或者高温高电流时镀液出现浑浊，断电
3.2g/L 0—3.5cm黑色无附着力镀层 0—3.5cm黑色无附着力镀层
后逐渐澄清
低温低电流或者高温高电流时镀液出现浑浊，断电
3.9g/L 0—3.5cm黑色无附着力镀层 0—3.5cm黑色无附着力镀层
后逐渐澄清
1.2 数据分析及试验结果 大，严重影响镀液、镀层性能。.

由以上数据及实际生产情况来看：
1.2.1.在铜含量6.3克/升，E值600条件下，当铁含 2 大电流电解法去除无氰碱铜镀液中铁离
量为300ppm-700ppm时，赫尔槽试片出现明显发黑 子的去除方法

现象，可以通过减小工作电流和增加铜含量、E值的方 在无氰碱铜镀液中，无氰碱铜的络合剂与铁的稳定
法减缓铁杂质对镀层的影响（在电镀生产中）。 常数比络合剂与铜的稳定常数大，因此在用电解法去除
1.2.2..在铜含量6.3克/升，E值600条件下，当铁含 铁杂质时，必须选用大电流操作条件。
量大于0.7-2.5克/升时，随着铁杂质浓度的升高，对镀 2.1 大电流电解法去除无氰碱铜渡液中铁离子
液的影响越大，镀液维护越困难困难，工作电流密度范 实验(取某电镀铁丝网架客户现用镀液进行试验)：

围越小。 2.1.1. 镀液状态：Cu：4.6g/L，E:349，Fe：
1.2.3..当铁含量高于2.5g/L时，在高电流时（包括 311ppm
高温、低温）均会出现大量气泡，进而导致镀液浑浊， 2.1.2.电解条件：3dm （15cm×10cm×2面）瓦
2
镀液报废。 楞不锈钢片做阴极，电流6A/.dm （19A），将17cm×
2
1.3 结论 15cm的阳极袋套到阴极板上进行电解，每半小时换一次

无氰碱铜镀液中的铁杂质持续升高，镀液的电流密 阴极板。
度范围持续减小，高区的无附着力黑色镀层范围持续扩 2.1.3.实验数据

表2 大电流电解法去除铁离子杂质数据
电解时间 电解电流 铁含量 铁减少量 E剂含量
1 1小时 19A 260ppm 50ppm
2 1小时 19A 215ppm 45ppm
3 30分钟 19A 183ppm 32ppm 256

电解后经检测分析，阴极电解板上的黑色无附着 130ppm的铁离子，消耗E剂90E值，去除铁杂质效率
力镀层中铁含量为0.1%。由以上数据可知：电解去除 低，且对镀液损耗较大。

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